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半导体工艺化学实验报告

半导体工艺化学实验报告  实验名称:硅片的清洗  实验目的:1.熟悉清洗设备  2.掌握清洗流程以及清洗前预准备  实验设备:1.半导体兆声清洗机(SFQ-1006T)  2.SC-1;SC-2  实验背景及原理:  清洗的目的在于清除表面。下面小编给大家分享半导体工艺化学实验报告,希望能帮助到大家。 半导体工艺化学实验报告文档下载网址链接:
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